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オプティクス・光学部品を提案する会社です。

取扱製品

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• 光学材料

光学材料：Si（シリコン）

シリコン(Si)はチョコラルスキー（Czochralski）法（CZ法）で成長させますが、9μmで吸収帯を引き起こす何かを含んでいます。これを避けるために、フロート・ゾーン（FZ）プロセスによって作ります。
光学シリコンは、一般に10ミクロン以上の最良の透過を得るためにわずかな量（5-40オームcm）をドープします。一般に、ドーピングにはホウ素（p型）およびリン（n-タイプ）が使われます。ドーピングしたシリコンは、30-100μmのさらなる透過帯域を持ちます。この帯域は、非常に高い抵抗性の無補償材料にだけ有効です。
CZ法のシリコンは、1.5〜8μmの帯域で赤外リフレクターやウインドウ用の基板材質として一般に使用されます。 9μmの強い吸収帯があると、CO2レーザの透過用途には適さなくなります。しかし、高い熱伝導率と低密度であるため、頻繁にレーザミラーとして使用されます。
1.5〜8 μm帯でウインドウやレンズ、CO2レーザ用ミラー、分光計用として利用されます。

◆シリコン光学グレード

　・CZ、ホウ素ドープのP形、＜111＞ あるいは<100＞(抵抗性5-40オームcm)
　・FZ、燐ドープのN形、＜111＞、抵抗性＞50、好ましい抵抗性＞500オームcm、9μmでの吸収はありません。

シリコンの基本特性の基本特性